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感光聚醯亞胺（PSPI）是現代高階晶片製程中不可或缺的核心關鍵材料，因其同時兼具光阻劑與絕緣保護功能，能幫助半導體大幅簡化製程複雜度。永光化學以獨家專利技術開發出「EverPI® P系列正型感光聚醯亞胺」，在技術與市場上皆展現卓越的創新價值。 EverPI® P系列具備極致的高解析度，能製作出 3-5 微米極細微、且孔壁近乎直角、緊密整齊排列之微孔洞，在最小面積內極大化佈線密度，助力實現體積更小、效能更高的高階晶片。同時，它是市場上少數在實現180℃低溫固化、為客戶省下20%能耗的同時，還能兼顧高耐化性的產品；它完美克服傳統低溫材料分子結構脆弱的痛點，在後續高溫與強酸鹼蝕刻製程中，圖案仍能保持不塌陷、不變形，大幅提升晶片良率，亦幫助其他熱敏感元件不被高溫傷害。產品從原料端即排除NMP等高毒性物質，且可使用水性顯影液，兼具綠色環保與高設備共通性。 永光深耕電子化學領域超過30年，是台灣第一家量產光阻劑並導入指標大廠的先驅。對至關重要的台灣半導體產業，我們以在地供應優勢，提供更即時的客製調整並加速驗證週期，有效強化台灣半導體產業鏈的穩定度與韌性，在全球市場展現強大的永續競爭力。

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