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本公司開發之「半導體鏡組霧化防護設備」為全球首創可去除氣狀分子微汙染物(AMC)的精密溫控設備，唯一根本解決曝光機問題，在半導體與光電產業，大幅提升製程良率和效率。
獨創革命性水去除原理，替代坊間以化學濾網、沸石轉輪或蓄熱焚化方式等高危險性、高汙染、高價格的去除方式。
【產品效益】
1.防止曝光設備Lamp霧化，延長其使用年限。
2.防止曝光設備鏡組霧化：若使用化學濾網，約6至8個月需要清洗鏡組，一旦停機，對產能影響甚鉅，使用本設備後，至少6年毋須清洗鏡組。
3.曝光機動輒一台1億台幣，本參選產品可防止AMC腐蝕曝光機零組件，延長其使用年限。正常蒸發器1到2年後開始鏽蝕，2到5年後破損，需定期更換，使用本設備6年後，曝光機蒸發器狀態如新，無任何銹蝕狀況。
4.除提昇產品良率，減少業主70%保養成本。
【產品規格】
潔淨度控制：Class 4
溫度控制精度：±0.5°C~±0.05°C
濕度控制精度：±5%RH~±0.5%RH
AMC去除效率：>90% in main AMC
傳統化學濾網一年需更換4次，本設備內部AMC去除材料6年內不須更換，耗材更迭率低，更為環保。

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