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製程高濃度AMC去除機組是一款可以同時去除90%以上半導體/光電製程廢氣之酸、鹼、有機類氣態分子汙染物(AMC, Airborne Molecular Contamination)的處理設備。
在半導體製程中，須使用大量的化學品，當這些化學汙染物分佈於空氣中時，就會對其它製程造成影響，以及衍生廢氣處理問題。
本產品採用獨家開發水觸媒濾材，可將有機物轉化為更具親水性結構，再經由高效率水洗方式來去除多種物種，取代現有價格昂貴與標的污染物去除成效不彰的設備，對於半導體製程廢氣處理會有極大的助益，可同時應用於製程端做產品的保護，是目前業界獨創的設備。

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